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会社沿革

スパッタリングターゲット、半導体材料、単結晶などの製造販売をおこなってきたフルウチ化学の会社沿革です。

1973年12月 フルウチ化学株式会社設立(資本金100万円)
1976年03月 資本金300万円に増資
1978年08月 株式会社フルウチ化学研究所設立(資本金50万円)
1980年04月 フルウチ化学株式会社増資(資本金720万円)
1984年02月 株式会社フルウチ化学研究所を合併。(資本金1,000万円)
1985年05月 茨城県より工業用地を取得(土地面積:6,600u)
1985年09月 筑波工場着工
1986年02月 筑波工場竣工、移転操業開始
1986年03月 本社工場を筑波工場に全面移転
1986年04月 本社を大森北2丁目7番12号に移転
1986年12月 酸化物高温超電導材料が発見される。(La,Sr系)
1987年03月 高温超電導材料フィーバーが起こる。(Y,Bi系)
1987年06月

教育用マイスナーキットを製作販売し大ヒット商品となる
超電導関連商品を次々と考案製造販売をし世間から脚光を浴びる

1988年06月 大型ホットプレス、各種分析機器導入のため第二工場着工
1988年10月 本社営業部を東京建物大森ビルに移転
1988年11月

第二工場竣工、操業を開始
大面積ターゲット製作に入る

1990年04月 液晶用洗浄液「セミコクリーン」の生産を年2,000トンに増強
1996年06月 資本金を3,000万円に増資
1999年07月 東京都品川区南大井(大森駅前)に5階建ての自社ビルを購入
1999年10月 筑波工場 SGSジャパン株式会社より「ISO#9002(半導体基板及び液晶基板用洗浄液の製造)」の認証取得する
1999年12月 営業本部(統括本部)を品川区南大井の自社ビルに移転
2000年01月 光ファイバ−事業専門とする、KDDIファイバーラボ設立に参画出資
2003年06月 JST((独)科学技術振興機構)の独創モデル化に採択され「生態親和性の良い生態接着剤」の開発に着手する
2003年12月 SGSジャパン株式会社より「ISO#9001-2000(半導体基板及び液晶基板用洗浄液の製造)」を認証取得する
2004年04月 SGSジャパン株式会社より「ISO#14001-1996(筑波工場:第一工場)」を認証取得する
2004年05月 アース製薬株式会社の無機材事業部の酸化物結晶事業を買収
2004年08月 アース製薬株式会社の坂越工場内にて酸化物結晶の本格生産に入る
2005年04月 第17回中小企業優秀新技術・新製品賞で「生体親和性の高い医療用接着剤」の発明で優良賞受賞
2005年09月 平成17年度革新技術開発研究事業に応募した「分解性マトリックスを有する薬剤徐放性ステントの開発」が見事採択。3ヶ年計画の研究開発が始まる(予算規模約1億円)
2006年7月 (独)新エネルギー・産業技術開発機構(NEDO)のエネルギー使用合理化技術戦略的開発に[省エネ性に優れた光通信用半導体レーザーの実用化開発」というテーマで、JAXA、NTT、フルウチ化学で応募し見事採択され研究開発に入る。

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