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ITCの膜付及びイオン注入済みウェハ

この度、株式会社イオンテクノセンターの膜付・イオン注入済みウェハの販売を開始しました。
膜付・イオン注入済みウェハは株式会社イオンテクノセンターの成膜技術、イオン注入技術を生かしたウェハとなっています。
ぜひお問い合わせください。

膜付テストウェハ

仕様

膜 種:     
屈折率(n): 
膜 厚:
膜厚面内均一性:
ウェハサイズ:
ウェハ種類:

異物レベル:

ALD-SiO
1.55(実測値)
10nm(10.1nm)(実測値)
<1%(1σ)
300mmφ
Siウェハ
(再生ウェハ;板厚700〜750μm)
〜10個/ウェハ(size; >0.16μm)

◆膜種、膜厚等の詳細はご相談ください。
(ALD-SiN、PE-TEOS)

■ Atomic Layer Depositionは、反応ガスをウェハ表面に吸着させることで原子レベルの堆積が可能となり、これを繰り返すことで、極めて被膜性の良い薄膜が形成できる技術です。下記の様な特長があります。
・極薄膜
・良好なステップカバレッジ
・低サーマルバジェット(熱履歴)
・低温での膜形成が可能

注入済みウェハ

仕様

注入イオン種:     
注入エネルギー:
ドーズ量 :
ウェハサイズ :
ウェハ種類 :
ウェハ板厚 :
仕上げ :
アニール処理:

60種以上 (B,C,N,F,Al,Si,P,Ti,Fe,As,BF2など)
10keV〜5MeV
〜1E+16
2インチ〜12インチ
Si SiC GaN InP MgO GaAs 石英 その他
600〜750μm
両面研磨、片面研磨
高温処理も可能

◆ご希望に合わせた条件でのイオン注入が可能です。

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