セミコクリーン
セミコクリーンシリーズは、半導体や液晶基板などに使用される洗浄液です。半導体や液晶基板の洗浄は非常に時間と費用を費やしますが、セミコクリーンシリーズは時間と費用を短縮する合理的な洗浄液ですので、ぜひお使いください。
現在使われているシリコンやガリウム砒素、ガリウムリンウェハーなどの半導体洗浄法は、非常に時間と費用を要します。このふたつを一挙に解決したのが、当社が開発した半導体洗浄液「セミコクリーン23」です。脱脂作用と金属イオン除去、酸化膜除去効果を兼ね備えているので、今までの洗浄時間の1/10程度に短縮できます。時間ばかりでなくそれにともなう費用を大幅に削減できる、非常に合理的な半導体洗浄液です。
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成分 |
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物理的性質 | 比重約1、沸点90〜120℃、pH11〜13、無色透明な液体、微かなアンモニア臭 |
不純物 |
亜鉛(Zn)0.004ppm、ニッケル(Ni)0.007ppm、砒素(As)0.0004ppm |
区分 |
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経時変化 |
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廃液処理 |
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使用用途
シリコンやガリウム砒素、ガリウムリンなどの洗浄に使用できます。
- ウェハーのポリッシング、ラッピング後の洗浄
- 拡散前処理としての洗浄
- エピタキシャル前処理としての洗浄
使用方法
- 原液を超音波洗浄器に直接またはガラスビーカーなどで注ぎ、その中に洗浄物を入れ3〜10分超音波洗浄してください。
- 脱脂、エッチング後、純水にて3〜10分くらい流水洗浄してください。
- 純水洗浄後、スピンドライヤーなどで水切りしてください。
使用上の注意
- 超音波洗浄はなるべく室温でおこなってください。
- 洗浄容器の材質はガラス製もしくはステンレス製のものが適当です。
- パラフィン系ワックスは除去できません。
- アルカリ性ですので、ご使用の際はなるべく手袋などを着用してください。皮膚などについた場合は水洗するとすぐ落ちます。
- 銅、アルミニウム、亜鉛、またその合金などの洗浄はしないでください。
- 洗浄は室温が最適です。どうしても高温で使用しなければならないときは、換気などに十分気をつけてください(ドラフト使用のこと)。
- 長時間超音波洗浄を続けますと、洗浄器の熱により液温が上がります。わずかながらアミン臭がでてきますので、長時間の連続洗浄はさけてください。
液晶ディスプレイ・プラズマディスプレイ・有機ELディスプレイなどは、近年大型化が進み、今では第8、第9世代になろうかとしております。そのディスプレイ用基板であるガラス基板や石英・水晶・セラミックス・プラスチックなどの洗浄にセミコクリーン56は数多くの実績を挙げております。たとえば洗浄問題(クリーン度)、公害問題(廃液処理)、プロセス問題(作業性)など、全てを解決した大変ユニークなディスプレイ用洗浄液です。
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製品の特徴
- 廃液処理(中和)が容易です。
- 強力な脱脂作用があります。
- 人件費、化学薬品を大幅に削減します。
- 洗浄のプロセスを省略します。
製品の仕様
組成 |
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物理的性質 | 比重約1、沸点90〜120℃、引火点なし、発火点なし、PH11〜13、溶状 無色透明な液体、微かなアンモニア臭 |
区分 |
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経時変化 |
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廃液処理 |
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使用用途
ガラス、石英、宝石、水晶、セラミックス、プラスチックなどの洗浄に使用できます。
- 研磨剤、研磨油、砥粒など付着の基板洗浄
- 蒸着前処理としての洗浄
使用方法
- 原液を超音波洗浄器に直接またはガラスビーカーなどで注ぎ、その中に洗浄物を入れ、3〜5分くらい超音波洗浄してください。
- 超音波洗浄後、純水による流水洗浄をしてください。洗浄物が疎水性になればアルカリ分除去の目安となります。時間は3〜10分程度です。
使用上の注意
- 超音波洗浄は必ず室温でおこなってください。
- 洗浄容器の材質はガラス製もしくはステンレス製のものが適当です。
- アルカリ性ですので、ご使用の際はなるべく手袋などを着用してください。皮膚などについた場合は水洗するとすぐ落ちます。
- 銅、アルミニウム、亜鉛、またその合金などの洗浄はしないでください。
- 長時間超音波洗浄を続けますと、洗浄器の熱により液温が上がります。わずかながらアミン臭がでてきますので、長時間の連続洗浄はさけてください。